9 月 9 日，工信部重磅发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知，其中正式列出了国产氟化氩光刻机和氪氟化物光刻机的应用。

这一消息象征着中国光刻机技术取得了历史性突破，将为国内芯片产业提供强大的技术支撑，助力华为等科技企业逐步摆脱芯片制裁困境，推动国产芯片全面崛起。

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氟化氩光刻机与氪氟化物光刻机：新一代技术解析

根据通知，氟化氩光刻机可支持 65nm 节点，其配备 300mm 晶圆直径，照明波长为 193nm，分辨率小于 6.5nm，还具备先进的套刻能力。

而氪氟化物光刻机支持 110nm 制程，照明波长为 248nm，分辨率小于 110nm，套刻小于 25nm。

这两款光刻机的诞生，表明中国在芯片制造领域的基础设施建设有了大幅提升，尤其是在缺乏 EUV 光刻设备的情况下，氟化氩光刻机将为 7nm 等高端工艺提供技术支持。

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上海微电子崛起：国产光刻机的领军者

在这一科技突破背后，上海微电子无疑是最大的推动者之一。

作为国内唯一具备光刻机研发能力的企业，上海微电子自 2021 年推出 28nm 光刻机以来，一直在加速国产替代进程。

此次氟化氩光刻机的面世，上海微电子更是关键参与者。